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    摩擦輔助電鑄技術(shù)是采用不添加任何添加劑的標(biāo)準(zhǔn)電鑄液，在陰陽極之間添加不導(dǎo)電的游離粒子，在電鑄過程中運動的陰極帶動游離粒子不斷摩擦、擠壓電鑄層，可得到外觀表面平整、光亮、無任何麻點、針眼、結(jié)瘤等缺陷的電鑄層，其機(jī)械性能也非常優(yōu)異。
    游離粒子在電鑄過程中起到了至關(guān)重要的作用。選用不同直徑的硅酸鋯球，作為新工藝的摩擦介質(zhì)，通過對比試驗方法來研究游離粒子的直徑對電鑄層表面形貌、微觀組織和機(jī)械性能的影響規(guī)律。試驗結(jié)果表明，在摩擦輔助電鑄過程中，游離粒子的直徑對電鑄層外表面質(zhì)量影響非常明顯。粒子直徑過小，電鑄工藝處于亞復(fù)合電鑄狀態(tài)，易造成電鑄層起皮；直徑太大，易導(dǎo)致電鑄層摩擦不均勻；當(dāng)粒子直徑在0.4～2.0mm之間時，能獲得表面光亮、平整和強(qiáng)度較高的電鑄層。